电镀添加剂包含无机添加剂(如镀铜用的镉盐)和有机添加剂(如镀镍用的香豆素等)两大类。早期所用的电镀添加剂大多数为无机盐类,随后有机物才逐渐在电镀添加剂的部队中取得了主导地位。按功用分类,电镀添加剂可分为光亮剂、整平剂、应力消除剂和潮湿剂等。不一样功用的添加剂一般具有不一样的布局特色和作用机理,但多功用的添加剂也较常见,例如糖精既可作为镀镍光亮剂,又是常用的应力消除剂;而且不一样功用的添加剂也有可以遵从同一作用机理。
电镀添加剂的作用与成效机理是金属的电沉积进程是分步进行:
01.电活性物质粒子搬迁至阴极邻近的外赫姆霍兹层,进行电吸附,
02.阴极电荷传递至电极上吸附的部分去溶剂化离子或简单离子,形成吸附原子,
03.吸附原子在电极表面上搬迁,直到并入晶格。
上述的第一次进行塑胶电镀加工或者真空电镀加工的进程都会发生必定的过电位(分别为搬迁过电位、 活化过电位和电结晶过电位)。只要在必定的过电位下,金属的电沉积进程才具有足够高的晶粒成核速率、中等电荷搬迁速率及提足够高的结晶过电位,然后确保产品的电镀镀层平整细密光泽、与基体材料结合结实。而恰当的电镀添加剂可以进步金属电沉积的过电位,为提高镀层质量和产品品质提供实在的保证。
涣散操控机理在大多数情况下,添加剂向阴极的涣散(而不是金属离子的涣散)决议着金属的电堆积速率。这是因为金属离子的浓度一般为添加剂浓度的100~105倍,对金属离子而言,电极反应的电流密度远远低于其极限电流密度。 在添加剂涣散操控情况下,大多数添加剂粒子涣散并吸附在电极表面张力较大的凸突处、活性部位及特别的晶面上,致使电极表面吸附原子搬迁到电极表面凹陷处并进入晶格,然后起到整平亮光作用。
非涣散操控机理根据电镀中占操控位置的非涣散要素,可将添加剂的非涣散操控机理分为电吸附机理、络合物生成机理(包含离子桥机理)、离子对机理、改动赫姆霍兹电位机理、改动电极表面张力机理等多种。